受託合成

CONTRACT SYNTHESIS

受託合成サービスの流れ

01
ご依頼・ご相談

ご依頼は、訪問・ご来訪・お電話・お問合せフォームご利用等により、随時受け付けています。必要に応じて、秘密保持契約を締結した上で進めます。

02
工業化検討

開示いただいた技術情報を元に、検討を行います。安全で安定生産可能な、コスト競争力のある量産処方を開発します。

03
お見積り提示

検討結果に基づいた見積書を提出します。

04
試作

100L~3,000Lスケールの豊富な設備を揃えております。
商業生産に向けたスケールアップデータを収集し、量産処方の確立を図ります。

05
商業生産

1,000L~14,000Lスケールの商業生産を行います。
万全の工程管理と品質保証により、高品質な製品を安定的に継続生産します。

製造設備一覧

少量試作から商業生産まで、お客様のニーズに合った生産設備を保有。特に酸性物質に対応可能なグラスライニング(GL)釜、高粘度対応釜、高効率撹拌翼(フルゾーン、マックスブレンド)などにより、各種ご要望にお応えします。再結晶や種々の濾過による異物除去、活性炭素等による精製も可能です。

モノマーからポリマーまでの一貫製造もできるよう、各種ポリマー合成が可能な高粘度対応設備を導入しました。また、ポリマーの変性・転相乳化・精製等、さまざまな機能性高分子材料のニーズにも幅広くお応えします。

湘南工場

装置名 容量 材質 温度範囲 圧力範囲 撹拌翼 備考
反応缶 200L GL -20~180℃ 減圧可 ファウドラー、ツインスター、フルゾーン
1500L GL -20~160℃ 減圧可 ファウドラー、フルゾーン
SUS -20~320℃ 減圧可 パドル
3000L GL -20~160℃ 減圧可 ファウドラー、フルゾーン
8000L GL 5~160℃ 減圧可 フルゾーン
10000L GL 5~160℃ 減圧可 ファウドラー、フルゾーン
高粘度対応缶 100L SUS -20~180℃ 減圧可 リボン、マックスブレンド 対応粘度:160Pa・s
200L GL -20~180℃ 減圧可 マックスブレンド 対応粘度:100Pa・s
1500L GL -20~180℃ 減圧可 マックスブレンド 対応粘度:100Pa・s
SUS -20~180℃ 減圧可 マックスブレンド型 対応粘度:100Pa・s
分離機 20inch アフロンライニング 上部排出型遠心分離機
32inch アフロンライニング 底部排出型遠心分離機
42inch アフロンライニング 上部駆動底部排出型遠心分離機
48inch SUS 上部駆動底部排出型遠心分離機
ヌッチェ GL 加圧ろ過器
乾燥機 500L SUS 5~90℃ 減圧可 ろ過乾燥機型
1000L GL 5~90℃ 減圧可 コニカル型
2000L SUS 5~90℃ 減圧可 コニカル型
3000L SUS 5~90℃ 減圧可 ナウター型
380L SUS 室温~120℃ 常圧 送風乾燥機 棚乾燥機

*その他設備:サルファン取扱い設備、乾式造粒装置、溶剤回収装置、活性汚泥処理設備、各種排ガス処理装置

静岡工場

装置名 容量 材質 温度範囲 圧力範囲 撹拌翼 備考
反応缶 3000L SUS -5~120℃ 減圧可 パドル
4000L GL 10~100℃ 常圧 ファウドラー
5000L SUS -5~160℃ 減圧可 ファウドラー、マックスブレンド
6000L GL -20~160℃ 減圧可 ファウドラー、フルゾーン
10000L GL -5~130℃ 減圧可 マックスブレンド
SUS -5~80℃ 減圧可 パドル
14000L GL -5~140℃ 減圧可 ツインスター
高粘度対応缶 6000L GL -20~160℃ 減圧可 フルゾーン 対応粘度:100Pa・s
分離機 42inch アフロンライニング 上部駆動底部排出型遠心分離機
SUS
48inch アフロンライニング
SUS
乾燥機 3000L GL 5~90℃ 減圧可 コニカル型
2000L SUS 5~90℃ 減圧可 ナウター型
4000L SUS 5~90℃ 減圧可 ナウター型

*その他設備:サルファン取扱い設備、溶剤回収装置、活性汚泥処理設備、各種排ガス処理装置

サンケミカル株式会社

医薬GMP対応の設備をそろえております。設備一覧はサンケミカル株式会社のHPに掲載させていただいております。
https://www.sunchem.co.jp/

反応合成例

製造実績のある合成反応の一部を紹介します。この他にも多種・多様な有機合成反応を駆使して、お客様の様々なご要望にお応えします。

各種反応

ハロゲン化

エステル化

スルホン化(無水硫酸)

ニトロ化

酸クロライド化

エーテル化

アルキル化

ヒドロキシル化

アミノ化

マイケル付加反応

酸化

還元

アミド化

フリーデルクラフツ反応

液相空気酸化

各種ポリマー合成
(メタ)アクリル酸系ラジカル重合 リビングラジカル重合 溶液重合品の転相乳化
ジイソシアネートとジオールによる重付加
(ポリウレタン)
ラクトンの開環重合(ポリエステル) 懸濁・乳化重合
その他、ポリマーの粉体化、変性化、脱溶剤・溶剤置換や精製
モノマー合成
(メタ)アクリル酸クロライド、(メタ)アクリル酸無水物を使用した機能性(メタ)アクリレートモノマー、 その他合成技術を応用した多種モノマーの合成

特徴のある反応実績

  • ヒドロキシルアミンを用いた反応
  • 糖化合物の位置及び立体選択的な反応

分析機器一覧

液体クロマトグラフィー(HPLC) 示差熱・熱重量同時測定装置(TG-DTA)
ガスクロマトグラフィー(GC) 示差走査熱量計(DSC)
イオンクロマトグラフィー(IC) 反応熱量計(RC-1)
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC) インライン赤外分光光度計(reactIR)
液体クロマトグラフ質量分析装置(LC-MS) インライン粒子画像測定装置(PVM)
ガスクロマトグラフ質量分析装置(GC-MS) インライン粒度分布測定装置(FBRM)
GC用ヘッドスペース分析システム 電子水分計
核磁気共鳴分光装置 カールフィッシャー水分測定装置(容量法/電量法、気化装置)
高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置(ICP-AES) 電気伝導度計
原子吸光光度計(フレーム、グラファイトファーネス) 表面張力計
マイクロ波試料分解前処理装置 密度比重計
紫外可視分光光度計(UV) E型粘度計
赤外分光光度計(顕微FT-IR) B型粘度計
旋光度計 各種動粘度計(ウベローデ、キャノンフェンスケ)
エネルギー分散型蛍光X線分析装置(EDX) 融点測定装置
粉末X線回折装置(XRD) 色差計
動的光散乱式粒径分布装置 濁度計
レーザー回折散乱式粒度分布測定装置 屈折率計
走査型電子顕微鏡(SEM) 電位差自動滴定装置
粉体特性評価装置

開発・技術紹介

晶析条件改善による結晶形改善

晶析条件改良による結晶形改善

実機相似形状の反応容器・撹拌翼を用いて、反応条件や晶析条件の最適化検討を行います。ラボスケールにて、撹拌翼の違いによって反応速度や製品品質にどのような影響が出るかを確認し、必要な対策を検討します。
また、結晶形状の改善は多くの知見を有しており、蒸発晶析や冷却晶析、貧溶媒晶析など、さまざまな晶析プロセスを駆使して結晶形状や粒度分布をコントロールすることにより、分離時間や乾燥時間の短縮、お客様使用時の取扱性を向上させることができます。

インライン分析装置を活用した開発

インライン分析装置を活用した開発

プローブを系内に直接差し込んで測定するプロセス分析技術(PAT)を活用した研究開発を行います。インライン粒度分布計を用いて粒度分布や粒子個数の変化を測定したり、晶析中の粒子を画像でリアルタイムに見ることが可能です。また、IRで特定の波長を連続的に測定することにより反応トレンドをモニターでき、反応プロセスの研究開発・最適化を進める上で重要な情報を迅速に得ることができます。
特にサンプリングが難しい系での反応追跡や、結晶多形のような連続的に結晶形状が変化する系での最適化検討に有用です。

熱量測定による安全な処方設計

熱量測定による安全な処方設計

スケールアップ時の危険予測と安全なプロセス開発を、RC-1やDSCなど、熱量測定機器を活用して効率的に進めます。反応が適切に制御されたプロセスを設計することは最も重要です。未反応物質の蓄積や発熱挙動、製造設備の除熱能力などのデータを基に、安全なプロセスを開発します。
また、反応に伴う発熱や、工程時間延長による品質影響の予測など、スケールアップに伴う課題抽出と対策を検討します。

酸二無水物(液相空気酸化、カップリング)

液相空気酸化

液相空気酸化は空気中の酸素を酸化剤とし、専用設備も用いるコア技術です。
多種多様なカルボン酸誘導体を提供できることが可能でありその実績も豊富です。
また、この技術を活かして特色のある機能性ポリマー原料を提供しています。

特徴

  • 空気中の酸素を酸化剤として用いる環境にやさしい酸化法
  • 化学酸化と異なり、少ない触媒量で合成可能
  • 特殊設備を保有
  • 爆発限界を避ける、豊富な経験を保有
酸無水物開発

当社では、液相空気酸化、カップリング反応のノウハウを保有している強みを活かし、ポリイミドモノマーである様々な酸二無水物を提供することが可能です。

保有特許

(1)特許5280015 「p-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)の製造方法」
(2)特許5432605 「エステル基を有する芳香族カルボン酸二無水物の製造方法」
(3)特許5525216 「無水トリメリット酸ジエステルの製造方法」

ファインケミカル製品の合成・生成技術をベースとした効率的プロセス提案

プロセス提案

電子材料、医農薬など、ファインケミカル製品の合成・精製技術の豊富な蓄積をベースにお求めの化学品について、効率的プロセスを提案します。

対応例

①合理的プロセスのための製法開発

インドール構造を変質させることなく、7位に直接ニトロ基を導入する独自手法を開発。

従来法① ニトロベンゼン類から誘導

あらかじめニトロ基をもつ原料を用い、Fischer法などによりインドール構造を構築。
難点:使用原料が有害、副生物多

従来法② インドリン還元から誘導

インドリンに変換してからニトロ化
難点:使用原料が有害、工程数多い

②安全評価体制を基盤としたプロセス開発

【熱量測定(RC1e)による処方設計によって安全と品質を確保】
ラボ検討時に反応熱などを測定し、実製造時の危険を予測し、安全性の確保を行います。また発熱や工程時間延長による製品品質への影響を予測し、課題を抽出することができます。お客様に安全性と品質を確保した製造処方を提案します。

③不純物制御(金属異物、イオン性不純物など)

【磁選機、フィルター及び樹脂等を駆使して、金属異物・イオン性不純物を低減】
当社は長年、電子材料の開発、製造に携わっており、金属異物、イオン性不純物などの低減ノウハウを保有しています。
ご要望に応じて、金属異物、イオン性不純物を低減するためのプロセス提案し、量産化します。

医薬品原薬製造設備 サンケミカルGMP第八工場

医薬品原薬製造設備 サンケミカルGMP第八工場

関連会社であるサンケミカル株式会社は、1970年6月の創業時からアミノ酸製造を開始。以来、医薬中間体を中心に製造実績を積み重ねてきました。2002年には原薬工場が完成。「医薬品製造業許可」を取得して、現在まで多くの原薬(API)を製造し、医薬品メーカー様に供給しています。
(医薬品マスターファイル(MF):10品目、医薬中間体:多数)

医薬品原薬の製造にあたっては、GMPに準拠した医薬品の製造および品質管理体制を構築。また、国内外の医薬品製販様によるGMP監査や当局査察を定期的に受審し、ユーザー様から高い評価を受けています。法令遵守のもと、常に品質を最優先にした品質保証活動の充実、発展を通して、お客様にご満足いただける製品とサービスを提供しています。
(GMP実地監査:10件/年以上(PMDA、海外ユーザー含む))
(品質保証・品質管理メンバー:13名)

原薬製造設備

規 模:敷地面積170㎡、4階建て
クリーンルーム:製造エリアの大部分
レベル:クラス10万 0.5μ以上浮遊微粒子10万個/ft3以下(353万個/㎥以下)
精製釜:5㎥(GL) 
遠心分離機:48インチ(テフロン)
乾燥器:コニカル(GL)
粉 砕:ピンミル他
切替洗浄性:良好

得意技術

アミノ酸誘導体製造(ストレッカー反応、エステル化、SBH還元、還元的アミノ化、Nー保護、光学分割、ジペプチド)、グリニア反応、液相空気酸化反応、環化反応、水添反応、クロスカップリング

主な反応:アルキル化、ウィッティヒ反応、エポキシ化、金属を用いる還元、クライゼン転位、酸クロ化、脱水素、Parikin-Doering酸化、オキソン酸化、酸無水物化、ジペプチド合成、Stobbe縮合、Bucher-Bergs反応、鈴木カップリング、Chan-Lamカップリング、スルホン化、チオール化

サンケミカル株式会社 サイトへ

分子設計技術

分子設計技術

当社のルーツの一つである住金化工では、当時主力製品だったタール蒸留品を原料に、縮合多環芳香族(COPNA)樹脂を開発しました。これを皮切りに現在もさまざまな先端用途の機能性樹脂を自社開発し、ご提案しています。特に、熱硬化性樹脂の材料設計を得意としています。
これ以外の分子設計についても、気軽にご相談ください。これら開発ノウハウの蓄積をもとに、来るパラダイムシフトにも柔軟に対応できる材料提案を行っていきます。

主な用途

半導体周辺材料(封止材料、その他接着剤)、回路周辺材料(リジッド/フレキシブル)など

設計例

  • 【フェノール型】

    特徴
    ・高流動性
    ・高耐熱性
    ・高難燃性
    ・低弾性率
     ほか

  • 【フェノール性水酸基保護型】

    特徴
    ・高流動性
    ・高耐熱性
    ・速硬化性
    ・低誘電率、低誘電正接
     ほか

  • 【イミド型】

    特徴
    ・高溶解性(溶剤、水など)
    ・低誘電率、低誘電正接
     ほか